主页 > 通用设备鸿八机械网

真空镀膜机怎么使用?

265 2024-08-20 16:48

一、真空镀膜机怎么使用?

刚步入真空行业的新人们,把真空设备买回去却不知道怎么使用,接下来我们来详细的说一下真空镀膜机的使用方法:

真空镀膜机是目前制作真空应用比较广泛的设备之一,随着镀膜技术的快速增长,各种类型的真空镀膜机也开始陆陆续续的出现。它的工作原理很简单,正是因为它自身的许多优势特点,所以它的使用范围也越来越广。小编已经把真空镀膜机的相关信息整理出来了,接下来请大家来一起看看。

一、电控柜的操作:

开维持泵、真空机电源、真空机档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。

开机械泵,予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空机开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。

观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开机前和高阀继续抽空,抽真空到达一定程度后才能开右边的真空表头,观察真空度。真空度到达2*10-3以后才能开电子枪电源。

二、DEF-6B电子枪电源柜操作

开电子枪控制I和电子枪控制II电源:按电子枪控制I电源、延时开关、延时、电源及保护灯亮,三分钟后延时及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。

开高压,高压会达到10KV以上,调节束流可到200MA左右,帘栅为220V-100MA,灯丝电流1.2A,偏转电流在1~1.7之间摆动。

三、关机顺序

1、关高真空表头、关分子泵。

2、待分子泵显示到50时,依次关高阀、前级、机械泵,这期间约需40分钟。

3、到50以下时,再关维持泵。

真空镀膜机的应用范围:

1、建筑五金:卫浴五金(如水龙头)、门锁、门把手、卫浴、五金合叶、家具等

2、制表业:可用于表壳、表带的镀膜、水晶制品

3、其他小五金:皮革五金、不锈钢餐具、眼镜框、刀具、模具等

4、大型工件:汽车轮毂、不锈钢板、招牌、雕塑等

真空镀膜机应用的范围颇为广泛,但是每一款的真空镀膜设备的操作方法都有所不同。

二、真空镀膜机的真空度?

真空镀膜为什么会受到真空度的影响,真空度到底对镀膜工艺有哪些影响?

真空镀膜行业由于其镀膜工艺,需要抽真空,因此都连接了真空系统,真空泵因此大量应用于真空镀膜行业,真空泵过滤器也具有大量需求。

真空镀膜过程中,使用的真空度一般要求在10的负3次方上下,真空度是真空镀膜时务必严格管理的指标值之一,它对镀膜产品的颜色、耐磨性能、坚固度有非常重要的关联。

三、镀膜机的抽真空步骤?

答镀膜机的抽真空步骤通常包括以下几个步骤:

1. 打开抽真空系统,将真空室的气体排放尽,然后关闭抽真空系统的门。

2. 安装真空表和真空泵,并调整真空表的指针位置。

3. 启动真空泵,开始抽真空。

4. 当真空泵开始工作后,真空表的指针会开始移动。

5. 根据实际需要,可以根据真空表的指针位置进行调整,直到达到所需的真空度。

6. 关闭真空泵,并检查真空室的气体是否被抽出。

7. 如果需要,可以根据真空表的指针位置进行调整,并重复上述步骤,直到达到所需的真空度。

在进行抽真空操作时,应该严格遵守安全操作规程,确保人员安全。同时,应该注意真空泵的质量和性能,以确保镀膜过程的顺利进行。

四、真空镀膜机的原理?

现有的真空镀膜机,主要用于一些放气量较少的普通玻璃上镀膜,由于大面积有机玻璃放气量较大,热变形温度低,刚性低,因此现有的真空镀膜机无法镀制大面积有机玻璃。现有的镀膜机蒸发源间呈正方形分布,这样镀出的膜层均匀性差,无法保证大面积有机玻璃在镀制过程中不变形。为了克服现有技术之不足,提供一种真空镀膜系统,本系统由真空镀膜系统和真空手套箱系统集成而成,可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀,并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。 蒸发镀膜与真空手套箱组合,实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作,使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中,消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响,保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。真空镀膜系统用途:主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。

五、真空镀膜机怎么关闭?

真空镀膜机关闭

关机顺序

1. 关高真空表头、关分子泵。

2. 待分子泵显示到50时,依次关高阀、前级、机械泵,这期间约需40分钟。

3. 到50以下时,再关维持泵。

关电离计,关闭高阀,切断加热器电源,用前级泵抽前级自然降至室温,关前级管道阀,停止机械泵,停冷却水、停电、停气。

六、真空镀膜机工作原理?

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。

主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。典型的真空镀膜,包括了录像带,数据磁带DAT,以及很多电极的制作过程。

七、爱华真空镀膜机真空值怎么调?

一、爱华真空镀膜机真空值调法

电控柜的操作

1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源

2、开总电源

3、开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。

4、开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。

5、观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。

八、真空镀膜机的真空计怎样设置?

真空镀膜机的正确操作步骤

一、电控柜的操作

1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源

2、开总电源

3、开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。

4、开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。

5、观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。

二、DEF-6B电子枪电源柜的操作

1、总电源

2、真空镀膜设备同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源:汽车玻璃镀膜按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关,延时、电源及保护灯亮,三分钟后延时及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。

3、开高压,高压会达到10KV以上,调节束流可到200mA左右,帘栅为20V/100mA,灯丝电流1.2A,偏转电流在1~1.7之间摆动。

三、关机顺序

1、关高真空表头、关分子泵。

2、待分子泵显示到50时,依次关高阀、前级、机械泵,这期间约需40分钟。

3、到50以下时,再关维持泵。  

镀膜机常见故障及处理方法

检测不到掩膜夹具翻转信号:

1、检查翻面信号源位置

2、将翻面输入信号人工短接,使用翻面检测功能,计算机能检测到信号时,证明问题在翻面控制开关上,根据情况做相应处理。检测不到信号首先检查线路,然后更换控制卡。

掩膜夹具翻转不稳定:

1、检查翻板的初始位置是否符合时机

2、检测翻面控制开关工作是否稳定,可用指针万用表跟踪监测。

3、检查翻转机构动作是否灵活可靠

4、检查翻面信号次数设置

5、检查旋转工作台是否与钟罩内壁有磨擦现象

6、检测旋转工作台在转动时的稳定性

在同一掩膜夹具频率散差大:

1. 检查晶片本身是否散差大

2. 检查膜层修正板位置是否变动,重新调节修正板

3.检查一下挡板在开、关时是否完全遮挡住钼舟

4.检查一下轰击环是否完遮挡住钼舟

5、检查钼舟使用是否符合要求,要采用圆形钼舟

锅与锅之间频率散差大:

1、观察一下监控片是否存在跳频现象

2、反复测量统一监控片观察振荡器的稳定性(不超过75Hz)

3、检查冷却水是否通畅

4、检查钼舟使用是否符合要求,要采用圆形钼舟

5、监控片选用是否符合要求,建议采用我公司的监控片

镀膜频率不停止:

1、检查频率参数设置是否正确

2、钼舟电流表是否有指示

3、钼舟中是否有银

4、监控片是否跳频

5、修正系数是否错误

6、在出现非正常退后是否更换过监控片

测试不到频率:

1、更换一下监控片

2、检查一下测试弹片是否变形

3、用一只5MHz的晶体直接插入振荡器输入端测量频率,若有频率证明是探头问题,若无频率,用计数器测量一下振荡器输出频率是否异常,无正常输出证明振荡器有问题,有正常输出但计算机无显示证明控制卡有问题

控制阀均不动作:

1. 检查5V电源是否有输出,是否接好

2. 检查固态继电器板上电源公共端是否有电

控制阀个别不动作

1、检查相应的固态继电器是否有输出

未达到真空度就工作:

1、数字真空计出现不正常数字,且30秒内无变化,例如0.00-4(国产真空计常见)现象

2、指针表在真空计打开30秒后,黑色指针仍不摆动

监控片使用原则

1、监控片表面要清洗干净

2、监控片要随用随镀,空气中暴露12小时以上禁止使用

3、监控片及其表面存在存在缺陷的禁止使用

4、使用过程中要记录好使用批次,严禁出现新旧混用

5、监控片反复使用寿命为3次

九、真空镀膜机的结构原理?

说来话长,简单点的话就是:阴极被激发的电子在电场作用下加速飞向衬底基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和二次电子,二次电子飞向衬底基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在衬底上形成薄膜。二次电子在加速飞向衬底的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面做圆周运动,该电子的运动路径很长,在运动过程中不断地与氩原子发生碰撞电离出大量的氩离子轰击靶材,经过多次碰撞后二次电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,

最终沉积在衬底上

十、真空镀膜机价格是多少?

很朋友都问这个问题,真空镀膜设备分好几种,看工艺看设备配置,蒸发镀膜机在15-40万,多弧离子镀膜设备在30-120万,磁控溅射镀膜设备在60-100万、工具镀膜设备在70-100万